美光科技計劃在日本廣島縣興建生產DRAM晶片的新廠，最快2027年底投入營運。
日刊工業新聞報道，總投資額預估在6,000億至8,000億日圓（51億美元）。新廠將於2026年初動工，並安裝極紫外微影（EUV）設備。
日本政府已批准多達1,920億日圓（13億美元）補貼，支持美光在廣島廠生產新一代晶片。經濟產業省去年表示，這筆經費將協助美光引進荷蘭光刻機巨頭ASML生產EUV設備，這些晶片將是驅動生成式人工智能（AI）、資料中心和自駕技術的關鍵。
美光原有2024年讓新廠投入營運的計劃，但顯然因市況不佳而有所調整。美光2013年併購日本DRAM大廠爾必達（Elpida）事業，在日本擁有超過4,000名工程師和技術人員。
美光計劃在日本廣島縣興建生產DRAM晶片的新廠，最快2027年底投產。 （美聯社圖片）
